硅片充氮烘箱，無氧充氮烤箱概述

硅片充氮烘箱，無氧充氮烤箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設備。箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán)。烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結(jié)構(gòu)。工作室內(nèi)溫度采用智能式數(shù)顯溫度控制儀進行自動控制P.I.D調(diào)節(jié),數(shù)顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。 充氮烤箱可滿足電子電器、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口。

用途

潔凈烘箱適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IC、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門。

技術(shù)參數(shù)

Ø  溫控輸出：SSR輸出，品牌繼電器，固態(tài)繼電器。                   

Ø  測溫裝置：PT100 鉑 電阻溫度傳感裝置，測溫精確。

Ø  內(nèi)室材料：采用無磁性不銹鋼；外箱采用 SS41# 中碳鋼板經(jīng)磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆，可防止微塵(PARTICLE) 。

Ø  保溫材料：玻璃纖維。

Ø  保護裝置：超溫保護器，無熔絲開關。

Ø  流 量 計：氮氣轉(zhuǎn)子流量計

無氧烘箱

一． 概述

無氧化烘箱，在工作時，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業(yè)中的用途：IC包裝，LCD,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……

二．技術(shù)參數(shù)

1、主要技術(shù)指標

Ø  含氧量：< 100ppm;

Ø  溫度范圍： RT（室溫）+10～ +200℃；

Ø  溫度均勻度：±1℃;

Ø  溫度波動度：±0.5℃（空載）

Ø  溫控精度：0.1℃;

Ø  烘箱擱板為活動形式。